Компания «Плазменные источники», участник инновационного центра «Сколково», получила финансирование на развитие проекта «Создание нового поколения источников ионов непроводящих твердотельных веществ для полупроводниковой промышленности».
ООО «Плазменные источники» создано по ФЗ-217 при Институте сильноточной электроники ТНЦ СО РАН. Компания специализируется на научных исследованиях и разработках в области создания ионных источников и генераторов плазмы для модификации поверхностных свойств материалов и фундаментальных исследований.
В ноябре 2011 года компании присвоен статус участника инновационного центра «Сколково», в марте 2012-го заключено соглашение о получении гранта Фонда «Сколково». Проект ООО «Плазменные источники» посвящен созданию ионных источников для производства полупроводниковых элементов нового поколения — элементов микроэлектроники наноразмерной технологии. В лабораторных образцах достигнуты рекордные параметры источников, с точки зрения использования в полупроводниковой технологии. Общий объем финансирования проекта на два года составляет 24 млн рублей, из них 18 инвестирует Фонд «Сколково».
«Участие в инновационном центре «Сколково» и грантовая поддержка фонда помогают нам прежде всего в коммерциализации наших разработок», — отметил представитель компании Ефим Окс. Он также сообщил, что основными потенциальными покупателями продукции томских разработчиков являются ведущие зарубежные компании — производители ионно-имплантационного оборудования. Рынок ионных источников оценивается экспертами почти в 75 млн долларов в год, при этом в течение последних 5 лет наблюдается ежегодный рост объемов продаж на уровне 20 %.
